"Χαρακτηρισμός υλικών, βελτιστοποίηση διεργασιών και ανάπτυξη λογισμικού για την κατασκευή νανοδομών."

     Στην κατασκευή των ολοκληρωμένων κυκλωμάτων (Ο.Κ.) η παγκόσμια τάση, τόσο σε επίπεδο έρευνας όσο και σε επίπεδο παραγωγής, είναι η σμίκρυνση των διαστάσεων των δομικών στοιχείων, ώστε να επιτυγχάνεται βελτίωση της λειτουργικότητας. Για τον σκοπό αυτό είναι απαραίτητη η ανάπτυξη νέων υλικών, διεργασιών και συστημάτων έκθεσης προς την κατεύθυνση της καλύτερης διακριτικής ικανότητας.

     Το έργο αυτό στοχεύει στην βελτιστοποίηση του τρόπου μεταφοράς γεωμετρικού σχεδιασμού στα ενεργά υμένια των Ο.Κ. με λιθογραφία και εγχάραξη, τελειοποιώντας τόσο τα υλικά όσο και τις διεργασίες που χρησιμοποιούνται. Η τεχνολογία, την οποία αναπτύξαμε, υλοποιεί διατάξεις με κρίσιμη διάσταση 100nm.

       Στα πλαίσια του έργου αυτού μελετήθηκαν:

• νέα πυριτιούχα πολυμερικά υλικά για τη χρήση τους σε τεχνολογίες λιθογραφίας πολύ υψηλής διακριτικής ικανότητας.

• η εγχάραξη πολυμερικών υλικών μικρολιθογραφίας σε ηλεκτρικές εκκενώσεις πλάσματος με σκοπό την κατασκευή μικρο και νανοδομών.

     Τα αποτελέσματα που προέκυψαν από τις παραπάνω μελέτες σε συνεργασία με κατάλληλα μοντέλα που αναπτύχθηκαν για την μελέτη της αλληλεπίδρασης ηλεκτρόνιων με την ύλη και της αλληλεπίδρασης πλάσματος με την ύλη οδήγησαν στην ανάπτυξη:

• λογισμικού για την προσομοίωση της διεργασίας της λιθογραφίας ηλεκτρονικής δέσμης για την υλοποίηση δομών < 100nm και

• πλήρη προσομοιωτή της διεργασίας ξηρής εγχάραξης πολυμερικών υμενίων.

     Τα ανωτέρω λογισμικά προσομοίωσης χρησιμοποιήθηκαν για την περαιτέρω βελτιστοποίηση των υλικών και διεργασιών με σκοπό την τελική υλοποίηση δομών κρίσιμης διάστασης 100nm.

     Στα πλαίσια του προγράμματος  πραγματοποιήθηκαν οι εξής δημοσιεύσεις σε διεθνή περιοδικά με σύστημα κριτών:

[1] Vapor sorption in thin supported polymer films studied by white light  interferometry.

Kyriaki Manoli, Dimitris Goustouridis, Stellios Chatzandroulis, Ioannis Raptis, Evangelos S.Valamontes, Merope Sanopoulou.

Polymer 47, 6117-6122, (2006).

[2] Dissolution properties of ultrathin photoresist films with multiwavelength interferometry.

A. Kokkinis, E. S. Valamontes, I. Raptis

Journal of Physics, CS10, 401, (2005)

[3] Comparison of Back-Foil SXRF and EPMA for the Elemental

Characterization of Thin Coatings.

E. S. Valamontes and J. C. Statharas

Vacuum 77, 371-376, (2005).

[4] Scanning X-ray micro.uorescence in a SEM for the analysis of very thin overlayers.

E. S. Valamontes, J. C. Statharas, C. Nomicos.

Nucl. Instr. and Meth. B 260 (2007) 628-632.

[5] Molecular weight and processing effects on the dissolution properties of thin poly(methyl methacrylate) films.

A. Kokkinis, E.S. Valamontes, D. Goustouridis, Th. Ganetsos, K. Beltsios, I. Raptis.

Microelectronic Engineering 85 (1) (2008) pp. 93-99.

[6] Tailoring the surface topography and wetting properties of oxygen-plasma treated poly-dimethyl siloxane.

A. Tserepi, E. Gogolides, V. Constantoudis, K. Tsougeni, N. Vourdas, E. S. Valamontes

Journal of Applied Physics 98, 113502, (2005).